技术原理Q:磁控溅射镀膜与电子束蒸发有何区别？磁控溅射和电子束蒸发是光学薄膜制造的两种主要工艺。电子束蒸发利用高能电子束加热蒸发膜材，沉积速率高，适用于多种材料，但膜层密度相对较低。磁控溅射利用等离子体中的离子轰击靶材使原子溅出沉积，膜层致密度高、附着力强、台阶覆盖性好，但设备成本较高。对于高性能光学薄膜，磁控溅射可实现更优异的光谱性能和激光损伤阈值。上海兆九光电同时配备电子束蒸发和磁控溅射设备，可根据产品性能要求选择最佳工艺路线。关键词：磁控溅射电子束蒸发镀膜工艺返回列表发布于 2026/5/18
磁控溅射和电子束蒸发是光学薄膜制造的两种主要工艺。电子束蒸发利用高能电子束加热蒸发膜材，沉积速率高，适用于多种材料，但膜层密度相对较低。磁控溅射利用等离子体中的离子轰击靶材使原子溅出沉积，膜层致密度高、附着力强、台阶覆盖性好，但设备成本较高。对于高性能光学薄膜，磁控溅射可实现更优异的光谱性能和激光损伤阈值。上海兆九光电同时配备电子束蒸发和磁控溅射设备，可根据产品性能要求选择最佳工艺路线。
