技术原理Q:什么是光学薄膜的米氏散 射？米氏散射（Mie Scattering）是当光与尺寸与波长可比拟的粒子或微观结构相互作用时发生的非瑞利散射，由Gustav Mie于1908年系统求解麦克斯韦方程得出。与瑞利散射（散射强度与1/λ⁴成正比，仅适用于粒子尺寸远小于波长）不同，米氏散射的散射截面与粒子尺寸参数x = 2πr/λ呈复杂振荡关系（米氏振荡），在某些尺寸下可能超过几何截面。在光学薄膜中，薄膜沉积过程中形成的柱状结构、晶界、空穴和微裂纹等微观不均匀性（尺寸0.01-1μm）会引发米氏散射，是薄膜散射损耗的主要来源。评估薄膜米氏散射的标准方法包括总积分散射测量（TIS，ASTM F1048）和角度分辨散射测量（ARS）。高质量光学薄膜的总散射应<10ppm，低散射镀膜技术（如离子束溅射IBS、离子辅助沉积IAD）可显著减少柱状结构和微裂纹，降低米氏散射损耗。关键词：米氏散射光散射损耗薄膜质量返回列表发布于 2026/5/20
米氏散射（Mie Scattering）是当光与尺寸与波长可比拟的粒子或微观结构相互作用时发生的非瑞利散射，由Gustav Mie于1908年系统求解麦克斯韦方程得出。与瑞利散射（散射强度与1/λ⁴成正比，仅适用于粒子尺寸远小于波长）不同，米氏散射的散射截面与粒子尺寸参数x = 2πr/λ呈复杂振荡关系（米氏振荡），在某些尺寸下可能超过几何截面。在光学薄膜中，薄膜沉积过程中形成的柱状结构、晶界、空穴和微裂纹等微观不均匀性（尺寸0.01-1μm）会引发米氏散射，是薄膜散射损耗的主要来源。评估薄膜米氏散射的标准方法包括总积分散射测量（TIS，ASTM F1048）和角度分辨散射测量（ARS）。高质量光学薄膜的总散射应<10ppm，低散射镀膜技术（如离子束溅射IBS、离子辅助沉积IAD）可显著减少柱状结构和微裂纹，降低米氏散射损耗。
